×

Автор РИД: Артамонов Антон Вячеславович

Показаны записи 1-3 из 3.
10.08.2015
№216.013.68c7

Способ изготовления слоев р-типа проводимости на кристаллах ingaas

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению, и может быть использовано при изготовлении фотодиодов на кристаллах InGaAs n-типа проводимости, фототранзисторов, фоторезисторов на основе кристаллов p-типа проводимости. В...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002558376
Дата охранного документа: 10.08.2015
10.02.2015
№216.013.25d4

Способ изготовления слоев р-типа проводимости на кристаллах inas

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению, и может быть использовано при изготовлении фотодиодов на кристаллах InAs n-типа проводимости, фототранзисторов, фоторезисторов на основе кристаллов p-типа проводимости. Способ...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002541137
Дата охранного документа: 10.02.2015
20.06.2013
№216.012.4e4f

Способ изготовления слоев p-типа проводимости на кристаллах insb

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению, и может быть использовано при изготовлении фотодиодов на кристаллах InSb n-типа проводимости (изготовление p-n-переходов), фототранзисторов (изготовление базовых областей на...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002485629
Дата охранного документа: 20.06.2013
+ добавить свой РИД