×

Автор РИД: ЭЛЕМЕНТ СИКС ЛИМИТЕД (GB)

Показаны записи 11-13 из 13.
20.05.2014
№216.012.c67f

Синтетический cvd алмаз

Изобретение относится к технологии производства синтетического алмазного материала, который может быть использован в электронных устройствах. Алмазный материал содержит одиночный замещающий азот в концентрации более примерно 0,5 ч/млн и имеющий такое полное интегральное поглощение в видимой...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002516574
Дата охранного документа: 20.05.2014
10.11.2013
№216.012.7e34

Способ изготовления фантазийно окрашенного оранжевого монокристаллического cvd-алмаза и полученный продукт

Изобретение относится к технологии получения цветных алмазных материалов, которые могут быть использованы в ювелирной промышленности. Монокристаллический алмазный материал, который был выращен методом CVD и имеет концентрацию одиночного замещающего азота менее 5 ppm облучают, чтобы ввести...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002497981
Дата охранного документа: 10.11.2013
27.01.2013
№216.012.201b

Бесцветный монокристаллический алмаз и способ его получения

Изобретение относится к технологии получения монокристаллического бесцветного алмаза химическим осаждением из паровой фазы (ХОПФ), который может быть использован для оптических и ювелирных применений. Способ включает подготовку подложки, использование атмосферы синтеза ХОПФ-алмаза, содержащей...
Тип: Изобретение
Номер охранного документа: 0002473720
Дата охранного документа: 27.01.2013
+ добавить свой РИД