Автор РИД: РАММ Юрген (CH)

Изобретение относится к области катодного искрового испарения. Способ импульсного прерывистого искрового разряда осуществляют посредством разряда от конденсатора и током разряда управляют посредством периодического подключения конденсатора. Между импульсами имеются временные интервалы...

Изобретение относится к способу эксплуатации источника дуги, причем электрический искровой разряд поджигается и управляется на поверхности мишени (5), и искровой разряд управляется одновременно постоянным током, которому сопоставлено постоянное напряжение DV, и вырабатываемым посредством...

Изобретение относится к барьерным слоям, обеспечивающим снижение проницаемости материала для конкретных субстанций. Способ для получения на подложке барьера, препятствующего прониканию водорода, содержит стадию осаждения на подложке слоевой системы (LS), содержащей, по меньшей мере, один слой...

Вакуумная установка нанесения покрытий содержит впуск (12) реакционноспособного газа, по меньшей мере один PVD-источник (8, 21) покрытия с плоским катодом (11) и подложкодержатель (6), содержащий несколько подложек (7), при этом подложкодержатель (6) обладает двухмерной горизонтальной...

Изобретение относится к области плазменной обработки. При обработке поверхностей подложек или обрабатываемых деталей с помощью вакуумного плазменного разряда между анодом (9) и катодом (7) образуется и осаждается на анодной поверхности (21) твердое вещество (19), которое имеет более высокий...

Изобретение относится к установке и способу плазменной вакуумной обработки. Обработку проводят в вакуумной камере (1), в которой размещены устройство для генерирования электрического низковольтного дугового разряда (15) (НВДР), носитель (7) изделия для приема и перемещения изделий (2) и по...