Автор РИД: Афанасьев Михаил Мефодъевич

Настоящее изобретение относится к фотолитографическому процессу формирования рельефных покрытий на функциональных поверхностях подложек для интегральных схем с помощью фоторезиста и, в частности, к безметальному проявителю позитивного фоторезиста. Безметальный проявитель позитивного фоторезиста...

Изобретение относится к эпоксидным композициям на основе эпоксидных смол холодного отверждения. Предназначенно для склеивания, герметизации и ремонта материалов и изделий медицинского и бытового назначения, материалов, эксплуатируемых в замкнутых и герметичных помещениях. Эпоксидная композиция...